真空系统将电子束蒸发和磁控溅射技术结合在一个真空周期中
特征:
设备包括三个模块:
电子束技术模块 - 设计用于通过电子束蒸发涂层,并在基板的一侧同时辅助。
磁铁工艺模块 - 由磁铁溅射涂层,并在基板的第二侧进行RF预洗。
加载模块 - 提供在基板支架上的基板手动安装,并在不发泄过程室的情况下将基板支架自动移动到过程模块中。
将涂层应用于固定在圆盘基板支架上的基板。使用石英厚度监视器和光学控制的离子清洁和辅助,蒸发和溅射的过程的完全自动化,可以获得具有所需属性并保证可重复性的涂层。
技术数据:

技术设备:
DC-磁铁
RF-MAGNETRON
电子束
电阻蒸发器
RF离子源
离子光束清洁源