实验室研究的磁铁溅射系统
沉积是通过用初步离子梁清洁的磁控溅射方法进行的。涂料沉积在安装在磁盘类型的基板支架上的基板上。
技术数据：
技术设备：
DC-磁铁
脉冲直流磁通
离子光束清洁源
RF-磁铁
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