自动宽带光学控制系统的溅射过程

特征：

• 复杂多层涂层的溅射过程的完全自动化

• 在溅射过程中优化涂层结构

主要控制模式是直接放置在旋转基板支架上的基板上的光透射率（证人）（直接测量）。光谱仪测量底物持有人每次旋转后整个工作范围内涂层的真实光谱

优化算法在溅射过程中监视当前结果，如果以前的层偏差，请重新计算结构并在下一层中引入更正以补偿先前的偏差。

技术数据：